Equipe da Universidade de Xian constrói fototransistor com polarização de gate nula para detecção de descargas fracas
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Equipe da Universidade de Xian constrói fototransistor com polarização de gate nula para detecção de descargas fracas

Pesquisadores da Universidade de Jiaotong em Xian alcançaram a criação de um fototransistor baseado em semicondutor bidimensional que demonstra alta sensibilidade e resposta rápida sem a necessidade de aplicar tensão no gate. Este desenvolvimento foi apresentado na revista Advanced Optical Materials sob o título «Plasmon-Enhanced Photodetection in Ferroelectric-Tunable Two-Dimensional Phototransistor».

O trabalho, realizado pela Escola de Engenharia Elétrica e pelo Laboratório Nacional Chave de Isolamento Elétrico e Equipamentos de Potência da universidade, visa a detecção óptica de descargas parciais em equipamentos de potência. Durante a degradação do isolamento em disjuntores e disjuntores gasosos, podem ocorrer emissões de luz ultravioleta ou visível fracas em estágios iniciais.

A sondagem óptica permite evitar interferências eletromagnéticas e transmitir informações espectrais, mas os sinais recebidos são muito fracos. Embora materiais bidimensionais, como dissulfeto de tungstênio (WS2), interajam fortemente com a luz, dispositivos baseados neles enfrentaram problemas de baixa eficiência de conversão, compromisso entre amplificação e velocidade, bem como vazamentos e consumo de energia tipicamente associados à tensão de gate necessária para ajustar tais dispositivos.

A equipe superou essas limitações usando dois mecanismos. O canal de WS2 é colocado sobre um filme ferroelétrico ultrafino de óxido de háfnio dopado com alumínio, com cerca de 10 nanômetros de espessura, que atua como dielétrico de gate. Acima do canal, há um arranjo de nanopartículas de ouro, cujo tamanho foi determinado por modelagem para máxima amplificação do campo luminoso, e ele funciona como uma camada plasmônica.

Quando a luz excita a ressonância plasmônica, as nanopartículas concentram o campo local, levando à geração de mais portadores de carga fotoelétricos e à injeção de portadores quentes, aumentando a condutividade fotoelétrica. A polarização residual da camada ferroelétrica substitui a tensão externa no gate, ajustando a concentração de portadores e a barreira de contato em polarização nula, ao mesmo tempo que reduz a barreira na interface para acelerar o transporte de portadores.

Com tensão nula no gate, o dispositivo atingiu uma detectabilidade específica de $1.36 imes 10^{14}$ Jouans, que é um indicador da capacidade de capturar sinais luminosos fracos, bem como um tempo de resposta de 9,51 milissegundos. Como não é necessária tensão para manter o gate, este design também elimina os custos de energia constantes característicos dos dispositivos tradicionais com ajuste de gate.

A universidade observa que os resultados obtidos podem servir como base técnica para o desenvolvimento de módulos de sensores de baixa potência e matrizes de sensores de alta sensibilidade para detecção de descargas. No entanto, no momento, este é um único dispositivo de laboratório, e a transição para matrizes e sua integração com sistemas de monitoramento online exigirão a verificação da homogeneidade do material e da confiabilidade a longo prazo.

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A Huawei anunciou que o módulo de câmera do XMAGE Z10 é equipado com um sensor de imagem desenvolvido internamente pela divisão de projeto de chips HiSilicon. Esta informação foi apresentada durante o briefing de mídia Kirin 2026, realizado no centro de pesquisa da empresa no Lago Lianchuai, em Xangai, em 13 de outubro. No evento, Su Songyu, chefe do departamento de gerenciamento de produtos de chips terminais sem fio no negócio de semicondutores da Huawei, forneceu mais detalhes sobre a série Kirin 9050, indo além do esquema arquitetônico anteriormente exibido.

De acordo com o relatório feito no local pela IT Home, a série Kirin 9050 foi projetada para interagir intimamente com a nova geração de sensores de imagem CMOS desenvolvidos internamente, óptica totalmente personalizada e um ISP profissional para processamento de imagens. Isso permite que a Huawei configure toda a cadeia por conta própria, desde o sensor e a lente até o processamento no chip. Su informou que o XMAGE Z10 utiliza um sensor RYYB de 1 polegada de 50 megapixels, desenvolvido pela HiSilicon. Anteriormente, a cobertura deste módulo mencionava o tamanho e o filtro de cor do sensor, mas não indicava o desenvolvedor.

O XMAGE Z10 foi lançado em 1º de outubro junto com a série Mate 90. Ele se conecta através do suporte HyperClick da Huawei, disponível nas versões H1 e H2 para edições de colecionador Mate 90 Pro Max e Mate 90 RS, e suporta fixação rápida sem o uso de parafusos. O módulo possui seu próprio sistema de estabilização óptica de imagem, que funciona em conjunto com o chip Kirin, e seu preço é de 5.999 yuans, ou 19.499 yuans no kit de colecionador.

Em termos de segurança, a Huawei declarou que a série Kirin 9050 está entre as primeiras SoCs móveis a passar por testes oficiais de resistência a ataques quânticos, incluindo suporte a criptografia pós-quântica. A empresa também a nomeou como a primeira plataforma SoC com proteção no nível do chip: o processador de segurança móvel interage com um chip de segurança dedicado para proteger a inicialização, dados, privacidade e comunicações.

Quanto a áudio e vídeo, o chip combina computação heterogênea DSP e NPU com agendamento FFTS de baixa latência e decodificação de vídeo H.266 por hardware. A Huawei observou que isso melhora a clareza das chamadas e o processamento de som, além de tornar a reprodução de vídeo mais suave e eficiente em termos de energia em conexões de rede fracas. No entanto, a Huawei não divulgou o nome do órgão que realizou a certificação contra ataques quânticos nem forneceu especificações técnicas adicionais do novo sensor.

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